Web58 東芝レビューVol.69 No.5（2014） 塩酸塩電解による半導体アルカリ洗浄液の生成 59 半導体洗浄技術 半導体の洗浄液として，レジスト（感 光性樹脂）などの有機物の除去には H2O2と硫酸（H2SO4）を混合した硫酸 過水（SPM）が主に用いられています。 WebAug 22, 2009 · 私はシリコンが専門ではありませんが、同僚はフッ硝酸やsh(硫酸＋過酸化水素)、王水(塩酸＋硝酸)などで洗浄していたと思います。 こうした洗浄方法は、基板自体は溶かさない、もしくは、基板の極表面を薄く酸化させて、その酸化膜ごと表面の異物を取る、という考えに基づいています。

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